Thèse: Gravure plasma HAR pour In‑based III–V
GRENOBLE, 38
il y a 8 jours
Un institut de recherche en technologies avancées propose une thèse axée sur le développement de procédés de gravure plasma pour les semi-conducteurs III-V. Le candidat, basé à Grenoble, mènera des recherches sur la réduction des dommages induits par la gravure et l'optimisation des procédés. Un diplôme en science des matériaux ou domaine connexe est requis et une expérience en traitement plasma ou caractérisation est un plus. Le poste sera disponible à partir du 01/10/2026.
#J-18808-Ljbffr
Entreprise
CEA
Plateforme de publication
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