Stagiaire en Nettoyage Particulaire — Salle Blanche

CEA à Grenoble recherche un(e) alternant(e) pour le développement de procédés de nettoyage particulaire spécifiques pour les technologies CMOS avancées. Vous serez formé(e) à l'équipement WET 300 mm et à diverses techniques de caractérisation, avec des études d'optimisation des procédés.

Le candidat idéal est en deuxième année de BUT avec des compétences en science des matériaux et chimie. L'autonomie est primordiale, et des connaissances sur la microélectronique seraient un atout. Rejoignez une équipe dynamique pour réaliser des projets innovants.