Chercheur postdoctoral

Fonction Publique de l'Etat

Catégorie A (cadre)

Emploi ouvert uniquement aux contractuels

Recherche - Chercheuse / Chercheur

Vacant

Chercheur postdoctoral (H/F) sur la fabrication de membranes de silicium suspendues microstructurées

Le Centre national de la recherche scientifique est un organisme public de recherche pluridisciplinaire placé sous la tutelle du ministère de l'Enseignement supérieure et de la Recherche. Créé en 1939 et dirigé par des scientifiques, il a pour mission de faire progresser la connaissance et être utile à la société dans le respect des règles d'éthique, de déontologie et d'intégrité scientifique.

Missions :
Nous recherchons un chercheur postdoctoral hautement motivé pour rejoindre notre équipe et contribuer à un projet consacré à l'étude du transport des ondes élastiques dans des membranes de silicium microstructurées.
Le chercheur sera principalement responsable de la conception et de la fabrication de membranes de silicium suspendues, en utilisant les équipements de salle blanche de pointe du C2N.
Le travail impliquera le développement de procédés de micro- et nanofabrication avancés basés sur la technologie SOI, incluant la lithographie, la gravure plasma, le dépôt de couches minces et le relâchement des membranes.
Une attention particulière sera portée à la réalisation de motifs périodiques ou microstructurés destinés à contrôler la propagation des ondes élastiques à des fréquences gigahertz.
Le postdoctorant travaillera en étroite collaboration avec les autres membres de l'équipe, responsables de la caractérisation optique et acoustique des structures fabriquées.
Ce poste offre une excellente opportunité de développer une expertise en microfabrication de haute précision dans le cadre d'un projet de recherche multidisciplinaire associant nanotechnologie, science des matériaux et physique des ondes.
Activités :
- le développement de procédés de micro- et nanofabrication avancés basés sur la technologie SOI
- la lithographie
- la gravure plasma
- le dépôt de couches minces
- le relâchement des membranes.
- la réalisation de motifs périodiques ou microstructurés destinés à contrôler la propagation des ondes élastiques
Contexte de travail :
Les membranes de silicium issues de la technologie Silicon-On-Insulator (SOI) sont des structures hautement polyvalentes présentant de nombreuses applications en microélectronique, en systèmes microélectromécaniques (MEMS) et en nanotechnologie.
Elles sont obtenues par gravure sélective de la couche supérieure de silicium des plaquettes SOI afin de former des films suspendus, libres, pouvant atteindre quelques nanomètres d'épaisseur.
Grâce à leurs propriétés mécaniques et électroniques exceptionnelles, ces membranes constituent une plateforme idéale pour l'étude du transport thermique à l'échelle nanométrique, ainsi que pour le développement de nouvelles fonctionnalités optoélectroniques et de détection avancées.
Nous visons à utiliser ces membranes pour étudier le transport des ondes élastiques dans des matériaux microstructurés. Notre approche combine la nanofabrication avancée et l'excitation optique à phase contrôlée afin de générer et visualiser les ondes élastiques avec une résolution spatiale et temporelle élevée.
En concevant et en fabriquant des structures phononiques adaptées sur des plateformes de silicium suspendues, nous cherchons à démontrer une propagation d'ondes robuste et localisée, stable même en présence d'imperfections structurelles.
Ce travail fondamental contribuera à faire progresser la compréhension du contrôle des ond
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Le Centre national de la recherche scientifique est l'une des plus importantes institutions publiques au monde : femmes et hommes (plus de 1 000 laboratoires et 200 métiers), en partenariat avec les universités et les grandes écoles, y font progresser les connaissances en explorant le vivant, la matière, l'Univers et le fonctionnement des sociétés humaines. Depuis plus de 80 ans, y sont développées des recherches pluri et interdisciplinaires sur tout le territoire national, en Europe et à l'international. Le lien étroit que le CNRS tisse entre ses missions de recherche et le transfert vers la société fait de lui un acteur clé de l'innovation en France et dans le monde. Le partenariat qui le lie avec les entreprises est le socle de sa politique de valorisation et les start-ups issues de ses laboratoires (près de 100 chaque année) témoignent du potentiel économique de ses travaux de recherche.

Competences :
Le/la candidat(e) devra posséder :
Un doctorat en physique, science des matériaux, génie électrique, nanotechnologie ou domaine équivalent.
Une solide expérience pratique en micro- et nanofabrication en salle blanche, idéalement sur substrats SOI.
Une maîtrise des principales techniques de microfabrication, notamment :
Lithographie optique et/ou par faisceau d'électrons
Gravure humide et sèche (RIE, ICP, KOH, HF, etc.)
Dépôt de couches minces (PVD, PECVD)
Une familiarité avec les techniques de microscopie et de caractérisation (SEM, AFM, profilométrie, ellipsométrie, etc.).
Une capacité à développer et optimiser des procédés de fabrication, à documenter les protocoles et à assurer leur reproductibilité.
Une aptitude à travailler de manière autonome tout en collaborant efficacement au sein d'une équipe multidisciplinaire.
De bonnes compétences en communication en anglais (oral et écrit) ; le français est un atout mais non requis.
Un excellent dossier de publications dans des revues scientifiques pertinentes constitue un avantage.
Contraintes et risques :
Travail en environnement de laboratoire, utilisation d'équipements sous vide

Oui

entre et euros brut par mois selon expériences

Europe, France, Île-de-France, Essonne (91)

PALAISEAU

91120 PALAISEAU (France)

Niveau 8 Doctorat/diplômes équivalents

Formations générales

Français (Seuil)